Thin-Film Processing Labor

Das Thin-Film Processing Labor ist das Herzstück der experimentellen Materialentwicklung am ICP. Hier entstehen neuartige dünne Funktionsschichten und Bauelemente für Anwendungen in Optoelektronik, Photonik und Memristoren.

Das Labor ist für die Herstellung und Strukturierung dünner Schichten unter kontrollierten Umgebungsbedingungen ausgelegt. Zwei Glovebox-Systeme mit integriertem Vakuum-Aufdampfsystem ermöglichen die vollständige Fertigung empfindlicher organischer und hybrider Halbleiterbauelemente – darunter OLEDs, Solarzellen und Memristoren.

Neben der thermischen Verdampfung verschiedener Materialien werden Schichten aus Lösung (z. B. Spin-Coating oder Blade-Coating) abgeschieden. Zur strukturellen Charakterisierung stehen diverse Geräte zu Verfügung, darunter ein Profilometer und ein 3D-Mikroskop, um Topographie, Schichtdicke und Oberflächenhomogenität präzise zu bestimmen.

Das Labor bietet die nötige Infrastruktur, um vom Material bis zum funktionsfähigen Gerät zu gelangen – und bildet damit die Basis für die experimentelle Forschung des ICP in der Optoelektronik und funktionalen Dünnfilmtechnologie.